آنچه که باید در تولید درب و پنجره آلومینیوم بدانید

ریزساختار پوشش اعمال شده به روش اکسیداسیون پلاسمایی الکترولیتی قرار گرفته در محلول قلیایی مورفولوژی مقطع عرضی و سطح نمونه B (که پس از پوشش دهی در محلول قلیایی قرار گرفته بود) الف، نشان دهنده یک مورفولوژی سطحی شبیه به نمونه A می‎باشد، اما در بزرگنمایی بزرگتر (شکل ۲-۴-ب) به وضوح مشخص است که یک ساختار نانوفلسی در کل سطح (پس از عملیات قرارگیری در محلول قلیایی) تشکیل شده است. عرض هر کدام از فلس‎ها در حدود ۱۰۰ الى ۲۰۰ نانومتر بوده و ضخامت آنها کمتر از ۱۰ نانومتر می‎باشد. علاوه بر آن، به نظر می‎رسد لایه اکسیداسیون پلاسمایی الکترولیتی مشاهده شده در زیر سطح نانوفلسی ، به جای داشتن یک سطح صاف لایه لایه، ساختاری بازسازی شده دارد. این موضوع نشان می‎دهد که ساختار نانوفلسی، ناشی از مکانیزم انحلال و تشکیل مجدد (یا رسوب مجدد پوشش) است. بررسی‎های بیشتر روی میکروساختار نانوفلسهای نمونه. با توجه به تصویر زمینه روشن كل ضخامت  توزیع فازی در تصویر زمینه روشن شبیه توزیع فازی در نمونه A است، یعنی زمینه تیتانیمی در پایین لایه تیتانیا بلوری (شامل تخلخل‎ها و حفرات) در وسط و لایه آمورف در بالا. اما در این حالت، یک لایه مویی شکل سطحی (ناشی از ساختار نانوفلسی مشاهده شده در بالاترین لایه و هم چنین درون حفرات و تخلخل‎ها وجود دارد. بزرگنمایی بالاتر تصویر ساختار مویی شکل (مربوط به یکی از حفرات و تخلخلها) در تصویر بالایی سمت راست) دیده می‎شود، این تصویر نشان دهنده یک شبکه سه بعدی با ساختار ریز است که از جداره داخلی تخلخل مربوطه رشد کرده است. هم چنین ساختار مویی شکل در بالاترین لایه، که در تصویر زمینه روشن با بزرگنمایی بالا مشاهده شده بود (بالا، سمت راست) نیز یک شبکه سه بعدی دارد.

تصویر زمینه روشن از کل ضخامت نمونه A به همراه چهار ناحیه مشخص شده و الگوهای پراش مربوط به آنها 

تصاویر FE- SEM از مورفولوژی (الف)- سطح و (ب)- سطح مقطع نمونه قرار گرفته در محلول قلیایی (نمونه B) 

این نانوفلسهای سه بعدی، باعث افزایش قابل توجه سطح ویژه و به تبع آن بازده فوتوولانیک می‎شوند. هم چنین لازم به ذکر است از آنجایی که تمام تخلخل‎ها و حفرات موجود پس از عملیات قرار گرفتن در محلول قلیایی همراه با نانوفلسها رشد کرده بودند، می‎توان گفت که این تخلخل‎ها و حفرات در برابر ورود محلول قلیایی باز بوده و سطح آنها نیز تحت تاثیر فرایند تشکیل مجدد (از طريق انحلال و رسوب مجدد پوشش) قرار گرفته است. بنابراین، نانوفلسها نه تنها روی بالاترین لایه رشد می‎کنند بلکه به درون لایه‎های داخلی نیز رشد کرده و در نتیجه باعث افزایش قابل توجه سطح ویژه می‎شوند، لايه آمورف تصوير وسط در بالای شکل 5-2 (با ضخامتی در حدود 3/0 میکرومتر)، برخلاف لایه آمورف (با ضخامتی در حدود یک میکرومت)، نشان می‎دهد که نانو فلس‎ها از زمینه آمورف رشد کرده بودند و باعت نازک شدن لایه آمورف شدند. همان طور که پراش در شکل ۲-۵ نشان میدهد، نانوفلسها نیز آمورف هستند. تشکیل مجدد ساختار سطحی از طریق قرار گرفتن در محلول قلیایی، در حمامی با دمای نزدیک به دمای اتاق انجام می‎شود که این دما، باعث افزایش انرژی فعال سازی فازهای آناتاز و روتایل نمی‎شود، بنابراین نانوفلسهای آمورف تشکیل می‎شوند.ترکیب عنصری چهار ناحیه مشخص شده (P1 تا P4) به ترتیب از بخش خارجی به بخش داخلی لایه اکسیداسیون پلاسمایی الکترولیتی آمده است نتایج نشان میدهند که روی بالاترین لایه، یک لایه غنی از اکسیژن (شامل شبکه‎ای سه بعدی از نانوفلسها) تشکیل شده است. دلیل این امر می‎تواند زیاد بودن سطح ویژه باشد که باعث جذب مقادیر زیادی اکسیژن در طول ذخیره سازی و جذب مقادیر بیشتری از رنگ دانه برای ساخت DSSC می‎شود. علاوه بر آن، به دلیل وجود سدیم باقی مانده از محلول قلیایی، مقدار این عنصر در نانوفلسها بسیار بیشتر است. مقدار فسفر در بالاترین لایه، بسیار کمتر است که علت آن، جداشدن در طول انحلال و تشکیل مجدد در نظر گرفته میشود.